← 一覧に戻る ↓ このページの最下段に移る

JIS X 4161 フォント情報交換 第1部 体系 1993制定

番号 用語 定義 対応英語
3.1 並び線 一つのフォントのほとんどのグリフ像がその上に並んでいるように見える仮想的な線。 alignment line
3.2 現位置 次のグリフ表現を可視化する位置を示す表示面上の点。 current position
3.3 デザイン寸法 その大きさでの使用を考えて設計した，フォントの絶対的な寸法。 design size
3.4 送り グリフ表現を可視化した結果生じる，表示面上の現位置の移動。 escapement
3.5 送り点 グリフ表現を可視化した結果，表示面上で現位置が移る先を示す，グリフ座標系内の点であるグリフ配置量。 escapement point
3.6 フォント 基本デザインが同一であるグリフ像の集合。例えば，クーリエ ボールド オブリク(Courier Bold Oblique)。 font
3.7 フォントファミリ クーリエ，クーリエ ボールド，クーリエ ボールド オブリク(Courier，Courier Bold，Courier Bold Oblique)のように，共通するデザインのフォントの集合。 font family
3.8 フォント配置量 当該フォント資源に含まれるすべてのグリフ表現に共通する，フォント資源中の寸法と位置決め情報の集合。 font metrics
3.9 フォント参照 電子文書表現で用いるフォント資源について，そのフォントを識別したり，記述したりする情報。この情報に対する手続きや操作もフォント参照に含めてよい。 font reference
3.10 フォント資源 グリフ表現の集合に，フォント配置量情報とその集合全体に関係する記述情報とを加えたもの。 font resource
3.11 フォント寸法 ほとんどの場合，フォント配置量，グリフ形状及びグリフ配置量を相対的に指定する基準寸法(スカラ量)。 font size
3.12 グリフ 個々のデザインの違いを除去した認知可能な抽象的図記号。 glyph
3.13 グリフ集合 識別対象となるグリフの集合。 glyph collection
3.14 グリフ座標系 グリフ形状，グリフ配置量及びフォント配置量を定義するのに用いる2次元デカルト座標系。 glyph coordinate system
3.15 グリフ像 表示面上にグリフ表現を表示することによって得られる，グリフの可視化結果。 glyph image
3.16 グリフ配置量 グリフ形状の寸法と位置決めを規定する，グリフ表現の中の一群の情報。 glyph metrics
3.17 グリフ表現 フォント資源の中の個々のグリフに関するグリフ形状とグリフ配置量。 glyph representation
3.18 グリフ形状 グリフを表現する形を規定する，グリフ表現の中の一群の情報。 glyph shape
3.19 カーン 位置決め点又は送り点からはみ出たグリフ形状のはみ出し部分。 kern
3.20 位置決め点 通常はグリフ形状を可視化する前に表示面の現位置に対応させる，グリフ座標系の点であるグリフ配置量。 position point
3.21 姿勢 グリフの形状又はグリフの集合の形状が傾斜して見える定性的な程度。傾斜によってデザインが変化したり字体が変化したりする。 posture
3.22 表示面 表現処理が管理する表示媒体(紙，図形表示装置など)の仮想表現。その上ですべてのグリフ形状を可視化する。 presentation surface
3.23 プロポーション 一つのグリフ又はグリフ集合についての 送りのフォント高に対する比。 proportionate width
3.24 ステム グリフ形状の主要ストローク。 stem
3.25 ウェイト 一つのグリフ又はグリフ集合についての，ステム幅のフォント高に対する比。 weight
3.26 表記方向 組版システムなどの表記系でテキストを組んでいく方向。通常はその際のグリフの公称送り方向を示す。例えば，右向き，左向き，下向きなど。 writing mode

← 一覧に戻る ↑ このページのトップに戻る