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JIS X 4163：1994
フォント情報交換 第3部 グリフ形状表現 1994制定

番号 用語 定義 対応英語
02.02.01 暗号文 暗号化した情報。 ciphertext
02.02.02 現在点 グリフ記述言語のパス構成演算子が参照した最後の点。この点は，最後に描いた直線若しくは曲線の終点，又はrmoveto演算子若しくはsetcurrentpoint演算子が最後に置いた点のいずれかとなる。 current point
02.02.03 暗号キー グリフ手続きの暗号化又は非暗号化に必要な整数。 encryption key
02.02.04 フォントプログラム グリフ手続き及びグリフ記述データの構造化集合を組み込んだ計算機プログラム。 font program
02.02.05 仮想ステム グリフ範囲のMax‐y及びMin‐yだけに適用する仮想の水平ステム。もし正確な垂直そろえが必要であれば，hstemヒント演算子をこの仮想ステムに対して指定しなければならない。 ghost stem
02.02.06 グリフ手続き 標準グリフ形状記述演算子を使って書き，交換様式で表現した計算機プログラム。 glyph procedure
02.02.07 グリフ手続きインタプリタ グリフの輪郭線表現と，走査変換に必要な関連データ構造とを構成するための，グリフ手続きを解釈できる計算機処理。 glyph procedure interpreter
02.02.08 ヒント ラスタ装置上での表示のためのラスタ化に際して，グリフの均整及び特徴を保存するのに有効な，グリフの幾何形状に付加する手続き指定情報又は宣言的な指定情報。 hint
02.02.09 オーバーシュート 平たん(担)な先端位置をわずかに越えて伸びた，丸い又はとが(尖)ったグリフ先端の部分。これを用いて水平の表記方向で視覚的に正確なグリフの垂直並びを表現する。 overshoot
02.02.10 パス 一つ以上のパス構成演算子が構成する，サブパス及び領域の分離可能な集合。一つのグリフの中のすべてのサブパスの集合が一つのパスとなる。 path
02.02.11 平文 暗号化していない情報。 plaintext
02.02.14 ラスタ化 塗りつぶさなければならないグリフ範囲の決定と，それらの範囲を表現するためのビットマップの生成とからなる2段階の処理。 rasterization
02.02.13 領域 幾何的に定められた範囲。 region
02.02.14 区間 単一の描画命令で生成した曲線又は直線。すなわち，グリフ形状を定義するパスの上の連続する点の間の曲線又は直線。 segment
02.02.15 ステム幅整合 装置独立の輪郭線表現における公称幅の異なるグリフステムの集合を，ビットマップ表現へ変換するに際して，強制的に同じ幅にするための機構。 snap
02.02.17 サブパス 一つ以上のパス構成演算子が構成する，連結した直線区間又は曲線区間の列。 subpath
02.02.17 組上り濃度 表示するフォントの相対的な太さ。フォントの中の主要ステムの相対的幅に基づく。表示面の範囲に対する，表示グリフ形状の面積の相対量でもある。 typographic color

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