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JIS X 6305-1：2010
識別カードの試験方法―第1部：一般的特性 2010改正●2003制定

番号 用語 定義 対応英語
3.1 試験方法 規格に適合していることを確認するために，カードの特性を試験する方法。 test method
3.2 機能残存 破壊を招く危険性がある幾つかの試験に対して，次に示す機能が試験後に残存していること。
a) 磁気ストライプでは，試験の前後に計測される信号振幅の関係が基本規格に従っている。
b) ICでは，初期応答が基本規格に従っている。注記　この規格では，ICカードの完全な試験方法を網羅していない。この試験方法は，最低限の機能確認をするにすぎない。必要に応じて機能項目を加えて適用してもよい。
c) 外部端子では，電気抵抗及びインピーダンスが基本規格に従っている。
d) 光メモリでは，光学特性が基本規格に従っている。 		testability functional
3.3 反り カード平面性におけるゆがみ。 warpage
3.4 エンボス文字の凸部の高さ エンボス加工によって発生する，カード表面からのエンボス凸部の高さ。 embossing relief height●embossing relief height of a character
3.5 はく離強度 カードの構造を形成する素材について，隣接層間を分離させる力に抵抗する接着の程度。 peel strength
3.6 耐化学薬品性 通常の化学薬品にさらされたために生じるカードの性能，及び外観の変化に対するカードの抵抗力。 resistance to chemicals
3.7 寸法安定性 規定の温度及び湿度にさらされたために生じる，寸法変化に対するカードの抵抗力。 dimensional stability
3.8 粘着性又は接着性 新しいカードが積み重ねられて固着する度合い。 adhesion or blocking
3.9 静的曲げ強さ 静的な曲げに対するカードの抵抗力。 bending stiffness
3.10 動的曲げ力 カードに対して，規定の強さ及び方向で周期的に加える曲げ力。 dynamic bending stress
3.11 動的ねじり力 カードに対して，規定の強さ及び方向で周期的に加えるねじり力。 dynamic torsional stress
3.12 光透過係数 試料を透過した測定光束と，測定装置のサンプリング開口部から試料を除去したときの測定光束との比率。次の式で表される。
　T=Φ_τ/Φ_j
ここに，
　T：光透過係数
　Φ_τ：透過した光束
　Φ_j：開口部光束
注記　JIS X 6301:2005まで適用できる。 		optical transmittance factor●transmittance factor
3.13 不透過度●光透過濃度●D_T 透過係数の逆数の常用対数。次の式で表される。
　D_T = log_10 1/T = log_10 Φ_j/Φ_τ
ここに，
　T：光透過係数
　Φ_τ：透過した光束
　Φ_j：開口部光束
注記　JIS X 6301:2005まで適用できる。 		opacity●transmission density●optical transmission density
3.14 通常の使用 カード技術及び個人情報の記憶媒体に適したカードリーダライタ側の処理を含むIDカード(JIS X 6301参照)としての使用。 normal use

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